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更新時(shí)間:2019-11-12   點(diǎn)擊次數(shù):2069次
     超純水的水質(zhì)純度已經(jīng)成為影響光學(xué)器件產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品率及生產(chǎn)成本的重要因素之一,因此光學(xué)領(lǐng)域?qū)λ|(zhì)的要求也越來(lái)越高。同時(shí),超純水設(shè)備的性能好壞,直接影響到超純水的質(zhì)量。
 
·       在生產(chǎn)中,超純水主要用作純水清洗和純水配液,不同的工藝生產(chǎn)中純水的用途及對(duì)水質(zhì)的要求也不同。清洗需用純水,如水中含有氯離子,電容器就會(huì)漏電。在電子管生產(chǎn)中,電子管陰極涂甫碳酸鹽,如其中混入雜質(zhì),就會(huì)影響電子的發(fā)射,進(jìn)而影響電子管的放大性能及壽命。
 
·       因此其配液要使用純水,在顯象管和陰極射線(xiàn)管生產(chǎn)中,其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì),是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成,其配制需用純水,如純水中含銅在8ppb以上,就會(huì)引起發(fā)光變色;含鐵在50ppb以上就會(huì)使發(fā)光變色、變暗、閃光跳躍;含奇有機(jī)物膠體、微粒、細(xì)菌等,就會(huì)降低熒光層強(qiáng)度及其與玻殼的粘附力,并會(huì)造成氣泡、條跡、漏光點(diǎn)等廢次品。
 
·       在晶體管、集成電路生產(chǎn)中,純水主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制,硅片氧化的水汽源,部分設(shè)備的冷卻水,配制電鍍液等。集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。水中的堿金屬(K、Na等)會(huì)使絕緣膜耐壓不良,重金屬(Au、Ag、Cu等)會(huì)使PN結(jié)耐壓降低,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)會(huì)使N型半導(dǎo)體特性惡化,V族元素(P、As、Sb等)會(huì)使P型半導(dǎo)體特性惡化,水中細(xì)菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20-50%)會(huì)使P型硅片上的局部區(qū)域變化為N型硅而導(dǎo)致器件性能變壞水中的顆粒(包括細(xì)菌)如吸咐在硅片表面,就會(huì)引起電路短路或特性變差。
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